+86 0755 83233703
品牌導(dǎo)讀：Allresist GmbH公司成立于1992年，經(jīng)過28年發(fā)展，ALLRESIST開發(fā)，生產(chǎn)和銷售用于光學(xué)和電子束光刻的抗蝕劑以及用于制造電子組件的相關(guān)工藝化學(xué)品，專業(yè)從事光刻工業(yè)所需電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，總部位于德國。開發(fā)，生產(chǎn)和用于光學(xué)和電子束光刻以及與這些抗蝕劑的電子元器件的制造相關(guān)聯(lián)的相應(yīng)處理的化學(xué)品分配抗蝕劑。德國ALLRESIST主要產(chǎn)品包括：Allresist光刻膠、Allresist電子束光刻膠等，公司通過了ISO9001產(chǎn)品質(zhì)量管理認證和ISO14001環(huán)境管理體系認證。華聯(lián)歐小編今天為大家?guī)淼膬?nèi)容是ALLRESIST,德國ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠，希望大家喜歡，接下來我們一起去看看吧!
一、ALLRESIST公司簡介
ALLRESIST GmbH回到六十年代的根源。在“Fotochemische Werke柏林”(ORWO),研究項目啟動了復(fù)印涂料的發(fā)展。已經(jīng)在1965年,第一個工作光致抗蝕劑的基礎(chǔ)上肉桂酸用于生產(chǎn)的晶體管。年代,開發(fā)工作力度和研究部門擴大到100名員工。大規(guī)模生產(chǎn)的新生產(chǎn)設(shè)施成立于1987年,生產(chǎn)和改進版本的抗拒這個設(shè)施仍ALLRESIST今天提供的。在1992年試圖抵制生產(chǎn)私有化后失敗了,部門被關(guān)閉。他們在光刻膠開發(fā)方面的經(jīng)驗基于悠久的傳統(tǒng)。作為柏林世界攝影博物館的衍生產(chǎn)品，他們可以借鑒30多年的研究成果。Allresist成立于1992年10月16日。您可以在這里找到他們過去二十年的研究項目。
歡迎使用ALLRESIST-攝影和電子束抗蝕劑專家。ALLRESIST開發(fā)，生產(chǎn)和銷售用于光學(xué)和電子束光刻的抗蝕劑以及用于制造電子組件的相關(guān)工藝化學(xué)品?？傻挚顾写笮〉墓饪毯碗娮邮饪痰乃袠藴使に嚒＝回洉r間短，小巧的1/4升容器，低價的測試樣品以及專業(yè)的建議是他們服務(wù)的一部分。10位高素質(zhì)，敬業(yè)的員工結(jié)合了能力和創(chuàng)新精神，致力于公司的理念：只有滿意的客戶和員工才能獲得市場成功。您可以在此處找到有關(guān)他們的環(huán)境和質(zhì)量政策的更多信息。唯一可能的方式保存非常抵制技術(shù)是成立一個新的大,小,高生產(chǎn)力的公司——ALLRESIST GmbH。
二、ALLRESIST產(chǎn)品介紹
1、ALLRESIST AR-P 5300剝離技術(shù)光刻膠系統(tǒng)
①AR-P 5300系列的正型光刻膠用于通過剝離技術(shù)生產(chǎn)底切結(jié)構(gòu)(剝離)，以生產(chǎn)氣相沉積圖案，尤其是金屬。底切輪廓是在通常的光刻工藝中獲得的，而無需額外的技術(shù)，時間和能源消耗。
②該抗蝕劑的特征在于對光的高靈敏度，優(yōu)異的分辨能力以及對金屬和氧化物表面的良好粘附性。它們包含在加熱板上和對流烤箱中正常回火期間會硬化抗蝕劑表面的成分。
③抗蝕劑結(jié)構(gòu)的底切在堿性水溶液顯影期間形成。雖然AR-P 5350在1-2μm的標準層厚度范圍內(nèi)使用，但新開發(fā)的抗蝕劑AR-P 5320也可用于創(chuàng)建5-10μm的剝離結(jié)構(gòu)。
④抗蝕劑由安全溶劑-溶劑混合物中的酚醛清漆-萘醌二疊氮化物-與主要成分1-甲氧基-2-丙基-乙酸酯組成。
2、ALLRESIST光阻AR-BR 5400
①首先，涂覆PMMA共聚物AR-BR 5400。
②然后將光致抗蝕劑AR-P 3510施加到退火的共聚物層上。
③可以以堿水溶液的方式顯影兩層浮渣系統(tǒng)。將抗蝕劑溶解在更安全的溶劑-溶劑混合物中。
④AR-BR 5400抗蝕劑是基于甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸的共聚物，主要成分為1-甲氧基-2-丙醇。
⑤AR-P 3510是一種線型酚醛清漆-萘醌二疊氮化物的組合，主要存在于乙酸1-甲氧基-2-丙酯中。
3、ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)
①保護涂層AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)是導(dǎo)電保護涂層。
②它們的功能是創(chuàng)建薄的導(dǎo)電層。
③AR-PC 5090設(shè)計用于PMMA-E-Beam，CSAR 62和HSQ抗蝕劑，而AR-PC 5091可與基于Novolak的E-Beam抗蝕劑一起使用。兩者都主要用于導(dǎo)出電子輻射產(chǎn)生的電荷。
④抗蝕劑通過旋涂施加。取決于旋轉(zhuǎn)速度，所得層厚度為30-80 nm，噴砂后用去離子水去除該層。這些解決方案的保質(zhì)期超過一年。
⑤抗蝕劑由聚苯胺，表面活性劑和水/醇的混合物組成。
三、ALLRESIST主要產(chǎn)品和型號
1、ALLRESIST主要產(chǎn)品
①德國ALLRESIST光刻膠
②德國ALLRESIST電子束光刻膠
③德國ALLRESIST光致抗蝕劑
④德國ALLRESIST電子束抵制
⑤德國ALLRESIST紫外光刻膠
2、ALLRESIST產(chǎn)品型號
①德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-PC 5090-5091（Electra 92）
②德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑50K，200K，600K，950K
③德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 6200（CSAR 62）
④德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 6500
⑤德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 7400
⑥德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-N 7500、7520
⑦德國ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-N 7700、7720
⑧ALLRESIST光刻膠ARP 672.11
⑨德國ALLRESIST光刻膠AR-P 1200，AR-N 2200
⑩德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3100
?德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3200
?德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3500（T）
?德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3700、3800 VLSIC
四、德國ALLRESIST光刻膠產(chǎn)品特點
1.光刻膠類型齊全，可以滿足用戶的各種工藝要求。
產(chǎn)品類型包括:紫外光刻膠(正片或負片)、剝離工藝膠、LIGA膠、圖案反轉(zhuǎn)膠、化學(xué)放大膠、抗蝕保護膠、聚酰亞胺膠、全息曝光膠、電子束光刻膠(包括聚甲基丙烯酸甲酯膠、電子束負片膠、三維曝光膠(灰色曝光膠)、混合曝光膠等。)
2.光刻膠封裝規(guī)格靈活多樣，適合各種規(guī)模的生產(chǎn)和科研需求。
包裝規(guī)格包括:250ml、1l、2.5l等常規(guī)包裝，以及30ml、100ml等測試用小包裝。
3.交貨時間短。
我們在每個月的20號左右向德國制造商下訂單。產(chǎn)品將在第二個月中旬到達。你可以根據(jù)實際情況合理安排采購時間。請聯(lián)系我們的銷售人員了解訂單詳情。
4.它可以提供高水平的技術(shù)咨詢服務(wù)，并有能力為特殊和復(fù)雜的工藝開發(fā)和定制光刻產(chǎn)品。
5.儲存條件:
儲存在一個封閉的容器中，并放在一個黑暗、干燥、涼爽、通風(fēng)良好的地方。儲存在合適的溫度下。
?完畢，以上就是今日小編為大家分享的關(guān)于ALLRESIST,德國ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠的全部產(chǎn)品內(nèi)容了，本文資料及圖片來源于網(wǎng)絡(luò)，如有侵權(quán)請聯(lián)系刪除！如您還有其它問題要咨詢，可以通過QQ、E-mail、電話、傳真、留言等聯(lián)系我們!
深圳市華聯(lián)歐國際貿(mào)易有限公司于2014年在深圳成立。公司的實力與規(guī)模不斷發(fā)展壯大。如今直接通過向歐洲各國采購原廠設(shè)備及備件，保證了產(chǎn)品在質(zhì)量、價格、貨期上的優(yōu)勢;深圳總部多位美女師哥精英銷售工程師向客戶提供產(chǎn)品選型、售后技術(shù)服務(wù)等多方面的支持，更有資深專業(yè)的技術(shù)工程師可為客戶提供專業(yè)的上門技術(shù)報務(wù)。如果您想購買ALLRESIST,德國ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠等工業(yè)品備件，就上深圳華聯(lián)歐，實惠省錢！找好價格，請認準華聯(lián)歐！
聲明：本文資料及圖片來源于ALLRESIST公司官網(wǎng)或者網(wǎng)絡(luò)收集整理，轉(zhuǎn)載請注明出處，發(fā)布本文章旨在為國內(nèi)客戶宣傳推廣工控品牌!如需購買產(chǎn)品還請遵守貿(mào)易規(guī)則，謝謝合作!
電話： 0755-83233703
